高温真空管式炉采用优质陶瓷SiC碳化硅棒作为加热元件,用于材料烧结或化学实验室在真空或其它气体条件下烧结材料样品。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理；根据管径不同，法兰分为卡箍和折页两种密封方式，安装拆卸简便快捷；该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域；广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。
高温真空管式炉在使用时需要注意问题：
1、管式炉使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤，在300℃左右烘烤使用，以免造成炉膛开裂。炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。禁止向炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属，保持炉内的清洁。
2、冷炉使用时，由于炉膛是冷的，须大量吸热，所以低温段升温速率不易过快，各温度段的升温速率差别不易太大，设置升温速率时应充分考虑所烧结材料的物理化学性质，以免出现喷料现象，污染炉管。
3、管式炉使用过一段时间后，若真空度降低，可分别更换不锈钢法兰盘之间的耐温硅胶圈或重新安装不锈钢法兰盘或更换修理真空系统，以提高系统的整体真空度。
4、炉膛若采用石英管，当温度高于一千度时，石英管的高温部分会出现不透明现象，这叫失透(又叫析晶性)是连熔石英管的一个固有缺陷，属正常现象。
5、定期检查温度控制系统的电器连接部分的接触是否良好，应特别注意加热元件的各连接点的连接是否紧固。