真空气氛管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，LED发光材料，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。广泛适用于高、中、低温CVD 工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
真空气氛管式炉的作用原理：
物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法。不同的材料选择适宜的气氛烧结，有助于烧结过程，提高制品致密化程度、获得良好的性能的制品。是在真空情况下，通入气氛保护烧结物体在炉膛内进行烧结的方法。
真空气氛管式炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体(如氩)等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结，透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结，氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。如钼丝炉宜通氢，钨丝炉宜在真空条件下工作。
真空气氛管式炉设备特点有：
1.采用高纯石英管或刚玉管作为炉膛，可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度。
2.耐火、保温材料全部采用的轻质纤维制品，整机质量轻，能耗低。
3.加热原件采用U型硅钼（碳）棒或进口电阻丝。
4.温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性和重复性。